2020 차세대 리소그래피 학술대회

2020 Next Generation Lithography Conference
Nov. 18~19, 2020

Online Conference

Full Program
2020 NGL Program Book
November 18, 2020 (Wed)
09:30 ~ 12:00 Short Course 1
이진균 교수(인하대)
Short Course 2
이준호 교수(공주대)
Short Course 3
서정훈 박사(ASML US)
Short Course 4
신영수 교수(KAIST)
Short Course 5
최성운 연구위원(HIMS)
12:00 ~ 13:00 Lunch
13:00 ~ 14:30 W-PM I
Patterning Material I

좌장: 이진균(인하대)
W-MI I
Metrology / Inspection I

좌장: 이병호(SK 하이닉스)
Poster
Session
14:30 ~ 14:40  
14:40 ~ 15:55 W-PM II
Patterning Material II

좌장: 김명웅(인하대)
W-MI II
Metrology / Inspection II

좌장: 박병천(KRISS)
15:55 ~ 16:05  
16:05 ~ 17:35 W-EU I
Extreme UV / Optical Lithography I

좌장: 현윤석(ASML)
W-MI III
Metrology / Inspection III

좌장: 이준호(공주대)
November 19, 2020 (Thu)
09:30 ~ 11:50 Opening Ceremony
Plenary Talk

좌장: 이준호(공주대)
11:50 ~ 13:00 Lunch
13:00 ~ 14:30 T-NF I
Nano Fabrication for
Next Generation Optical Devices I

좌장: 김명기(고려대)
T-AL I
Alternative Lithography /
Printed Electronics I

좌장: 정연식(KAIST)
T-XR I
X-ray Source /
Instrumentation Applications

좌장: 강경태(KITECH)
Poster
Session
14:30 ~ 14:40 Break
14:40 ~ 16:10 T-NF II
Nano Fabrication for
Next Generation Optical Devices II

좌장: 김선경(경희대)
T-AL II
Alternative Lithography /
Printed Electronics II

좌장: 이대호(가천대)
T-CL I
Modeling /
Computational Lithography

좌장: 윤제범(Mentor Graphics)
16:10 ~ 16:25 Break  
16:25 ~ 17:25 T-NF III
Nano Fabrication for
Next Generation Optical Devices III

좌장: 노준석(포항공대)
 
17:25 ~ 17:50 Best Student Paper Awards
Closing Ceremony

좌장: 김성환(아주대)

Oral Sessions

W-PM I : Patterning Material I
Room 1, 11월 18일 13:00 - 14:30
좌장 : 이진균 (인하대학교)

W-PM I-1 | 13:00 (초청강연)

Simulations Studies in Patterning Materials Development  

*허수미(전남대학교)

W-PM I-2 | 13:30 (초청강연)

Photosensitive Crosslinkable Polymeric Systems to Form Functional Surfaces Utilizable for Lithographic Applications

*김명웅(인하대학교)

W-PM I-3 | 14:00 (초청강연)

Generalized Orientation Strategy of Block Copolymer Microdomains in Thin Films for Sub-10 nm Directed Self-Assembly

*손정곤(한국과학기술연구원)

W-MI I : Metrology / Inspection I
Room 2, 11월 18일 13:00 - 14:15
좌장 : 이병호 (SK 하이닉스)

W-MI I-1 | 13:00 (초청강연)

Current metrology challenges and potential solutions for the next generation semiconductor devices

*이명준(삼성전자(주))

W-MI I-2 | 13:30 (초청강연)

High Resolution E-beam Metrology Applications to Address Edge Placement Error Challenges for Process Optimization and Monitoring in Advanced Technology Node

*Kelvin Pao(ASML HMI)

W-MI I-3 | 14:00

Model-less TSOM 기법을 이용한 sub-um 단위 Defect 높이 측정 기술 개발 연구

주지용, 이민지, *이준호(공주대학교), 장원혁, 이창욱, 임용운(Samsung Display)

W-PM II : Patterning Material II
Room 1, 11월 18일 14:40 - 15:55
좌장 : 김명웅 (인하대학교)

W-PM II-1 | 14:40 (초청강연)

Materials and Applications of High-resolution Self-assembly and Transfer Printing

*정연식(한국과학기술원)

W-PM II-2 | 15:10 (초청강연)

향상된 굴절률 및 포토패터닝 특성을 지니는 불소화 유-무기 나노 복합소재 개발

*이진균, 손종찬(인하대학교)

W-PM II-3 | 15:40

Zirconium-based photoresists for ultra-fine nanopatterns

황종하, *장지현(울산과학기술원)

W-MI II : Metrology / Inspection II
Room 2, 11월 18일 14:40 - 15:55
좌장 : 박병천 (KRISS)

W-MI II-1 | 14:40 (초청강연)

차세대 리소그래피용 포토마스크 검사를 위한 정밀 통합광학장비 개발

이민호, 조성용, 인선자, 윤희규, *김상열((주)엘립소테크놀러지)

W-MI II-2 | 15:10 (초청강연)

Dynamic spectroscopic ellipsometry and its mapping capability

*김대석(전북대학교)

W-MI II-3 | 15:40

Development of auto focus system for high magnification optical system with real-time tracking function  

문지환, 이정석(명지대학교), 하응주(Machine&Vision Co.,Ltd), 정중연(Net science Co.,Ltd), *김재순(명지대학교)

W-EU I : Extreme UV / Optical Lithography I
Room 1, 11월 18일 16:05 - 17:35
좌장 : 현윤석(ASML)

W-EU I-1 | 16:05 (초청강연)

Large field-of-view and high-sensitivity APMI with RESCAN

*H. Kim(Paul Scherrer Institute), R. Nebling, A. Dejkameh, T. Shen(Paul Scherrer Institute. ETH in Zurich), D. Kazazis, Y. Ekinci, I. Mochi(Paul Scherrer Institute)

W-EU I-2 | 16:35 (초청강연)

Actinic Tools Using Coherent EUV Source for High Volume Manufacturing

*이동근(주식회사 이솔)

W-EU I-3 | 17:05

TEUS – laser produced plasma EUV light source with high brightness and low debris

Konstantin Koshelev(RnD-ISAN/EUV Labs. Institute for Spectroscopy RAS (Troitsk)), Alexander Vinokhodov, Alexander Lash(RnD-ISAN/EUV Labs (Troitsk)), Mikhail Krivokorytov(RnD-ISAN/EUV Labs. Institute for Spectroscopy RAS (Troitsk)), Vladimir Krivtsun(Institute for Spectroscopy RAS (Troitsk)), Vyacheslav Medvedev(RnD-ISAN/EUV Labs (Troitsk)), Denis Glushkov, *Samir Ellwi(ISTEQ)

W-EU I-4 | 17:20

레이저 유도 플라즈마에서의 극자외선 발생 효율 향상

*임창환(한국원자력연구원)

W-MI III : Metrology / Inspection III
Room 2, 11월 18일 16:05 - 17:20
좌장 : 이준호 (공주대학교)

W-MI III-1 | 16:05 (초청강연)

반도체 계측과 검사 난제 해결을 위한 기계 학습 기술 개발

강윤식, *이병호(SK 하이닉스)

W-MI III-2 | 16:35 (초청강연)

차세대 광 MI를 위한 플렌옵틱 기술 동향

*이문섭(한국전자통신연구원)

W-MI III-3 | 17:05

플렌옵틱 1.0&2.0 공간-각 분해능 비교 분석

이민지, 한석기, 주지용, 차재덕, *이준호(공주대학교)

PL1 : Plenary Session
Room 1, 11월 19일 09:30 - 11:50
좌장 : 이준호 (공주대학교)

PL1-1 | 09:30

Opening Ceremony

*Hyang Kyun Kim(Hongik University), Jong Rak Park(Chosun University)

PL1-2 | 09:50 (초청강연)

Atomic Scale Patterning: how EUV can get us there (Plenary Presentation 1)

*Patrick Naulleau(CXRO at LBNL)

PL1-3 | 10:30 (초청강연)

Memory Technology 2020 and Beyond (Plenary Presentation 2)

*Jeongdong Choe(TechInsights)

PL1-4 | 11:10 (초청강연)

Beyond COV19-Challenges and Opportunities of Displays (Plenary Presentation 3)

*Gyoowan Han(Samsung Display)

T-NF I : Nano Fabrication for Next Generation Optical Devices I
Room 1, 11월 19일 13:00 - 14:30
좌장 : 김명기 (고려대학교)

T-NF I-1 | 13:00 (초청강연)

Optical structures for controlling mid-infrared thermal radiation

*김선경, 조진우(경희대학교)

T-NF I-2 | 13:30 (초청강연)

Real-space imaging of acoustic plasmons in graphene

*장민석(한국과학기술원)

T-NF I-3 | 14:00

Selective Emitter with Controlled Anisotropic Radiation for Thermal Camouflage

박창훈, 김자경, *한재원(연세대학교)

T-NF I-4 | 14:15

Realization of ultra-sharp plasmonic nanocavity for extreme photon squeezing via photoresist collapse control 

김인기, *노준석(포항공대)

T-AL I : Alternative Lithography / Printed Electronics I
Room 2, 11월 19일 13:00 - 14:30
좌장 : 정연식 (KAIST)

T-AL I-1 | 13:00 (초청강연)

Transfer printing of nanomaterials for the wearable electronics

*최문기(울산과학기술원)

T-AL I-2 | 13:30 (초청강연)

Extreme-Pressure Imprint Lithography for Direct Metal Nanopatterning

*박운익(부경대학교)

T-AL I-3 | 14:00 (초청강연)

Nanoscale patterning of 3D SERS substrates for label-free analysis of Alzheimer's disease biomarkers

박형준(피코파운드리), *정연식(한국과학기술원)

T-XR I : X-ray Source / Instrumentation Applications
Room 3, 11월 19일 13:00 - 14:30
좌장 : 강경태 (KITECH)

T-XR I-1 | 13:00 (초청강연)

Micro- and nano-focus digital x-ray sources for semiconductor inspections

*송윤호, 정진우, 박소라, 김재우, 강준태, 윤기남, 김성준, 양용석, 이명래, 고은솔, 이정웅, 안유정, 연지환, 김성희(ETRI)

T-XR I-2 | 13:30 (초청강연)

Recent research and development in scintillator field for digital X-ray imaging detector

*차보경(한국전기연구원)

T-XR I-3 | 14:00 (초청강연)

의료용 X-ray 센서에 적용 가능한 증착형 유기 광센서 개발

안건식, 김채원, 조관현, 배승환(한국생산기술연구원), 차보경(한국전기연구원), *강경태(한국생산기술연구원)

T-NF II : Nano Fabrication for Next Generation Optical Devices II
Room 1, 11월 19일 14:40 - 16:10
좌장 : 김선경 (경희대학교)

T-NF II-1 | 14:40 (초청강연)

Control of falling mechanisms: Cascade domino lithography and capillary-force-induced collapse lithography for extreme photon squeezing

*노준석(포항공과대학교)

T-NF II-2 | 15:10 (초청강연)

Directional Photofluidization Lithography for Fourier Optics

*이승우(고려대학교)

T-NF II-3 | 15:40

Direct-beam, phase-shift mask, and metasurface mask interference lithography

강병수, *이승우(고려대학교)

T-NF II-4 | 15:55

Unconventional lithographic approach for AR/VR diffractive optical
components

임용준, *이승우(고려대학교)

T-AL II : Alternative Lithography / Printed Electronics II
Room 2, 11월 19일 14:40 - 16:25
좌장 : 이대호 (가천대학교)

T-AL II-1 | 14:40 (초청강연)

Principle of successive laser pyrolysis and its application toward biochip industry

신재호, *고승환(서울대학교)

T-AL II-2 | 15:10 (초청강연)

확장형 레이저 프린팅 공정과 광전자 소자 응용

*강봉철(국민대학교)

T-AL II-3 | 15:40 (초청강연)

Light-Material Interaction Technology for Wearable Electronics

*박정환, 육도경, 이다운(금오공과대학교)

T-AL II-4 | 16:10

재프로그램 가능한 광전자 장치를 위한 디지털 레이저 페인팅

이영근, *홍석준(한양대학교)

T-CL I : Modeling / Computational Lithography I
Room 3, 11월 19일 14:40 - 16:10
좌장 : 윤제범 (Mentor Graphics)

T-CL I-1 | 14:40 (초청강연)

기계학습 방식을 활용한 결함 검출 방법 : SONR (State Of Nature Reduction)

*이종원(Mentor Graphics. A Siemens Business)

T-CL I-2 | 15:10 (초청강연)

Machine Learning Techniques for OPC Improvement at the Sub-5 nm Node

*Changsoo Kim, Seungjong Lee, Sangwoo Park, No-Young Chung, Jungmin Kim, Narae Bang, Sanghwa Lee, SooRyong Lee(Samsung Electronics), Robert Boone, Pengcheng Li, Jiyoon Chang, Xinxin Zhou, YoungMi Kim, MinSu Oh, Minsung Kim, Rachit Gupta, Jun Ye, Stanislas Baron(ASML US)

T-CL I-3 | 15:40

Machine Learning-Based Layout Synthesis

*Pervaiz Kareem, Yonghwi Kwon, Youngsoo Shin(KAIST)

T-CL I-4 | 15:55

Computational Sub-10 nm Plasmonic Nanogap Patterns by Block Copolymer Self-Assembly

*김상곤(홍익대학교)

T-NF III : Nano Fabrication for Next Generation Optical Devices III
Room 1, 11월 19일 16:25 - 17:25
좌장 : 노준석 (POSTECH)

T-NF III-1 | 16:25 (초청강연)

Solution-Processable Electrode Embedding In Dynamically-Inscribed Nanopattern (SPEEDIN) for scratch-proof heavy-duty flexible electronics platforms

*옥종걸(서울과학기술대학교)

T-NF III-2 | 16:55 (초청강연)

Large-area nanogap fabrication for terahertz switching

*박형렬(울산과학기술원)

PL2 : Closing Session
Room 1, 11월 19일 17:25 - 17:50
좌장 : 김성환 (아주대학교)

PL2-1 | 17:25

Best Student Paper Awards

PL2-2 | 17:25

Closing Ceremony