2020 차세대 리소그래피 학술대회

2020 Next Generation Lithography Conference
Nov. 18~19, 2020

Online Conference

Full Program
PS3
Extreme UV / Optical Lithography
PS3-1
6
열적, 광학적 특성을 고려한 다양한 구조의 EUV 리소그래피용 pellicle 의 수명 예측
반충현(한양대학원), 강인화, 최원영(한양대학교ERICA), 오혜근(한양대학교)
PS3-2
7
High NA에서 흡수체와 다층박막에 따른 최적의 극자외선 마스크 구조와 이미지 특성 비교
강인화(한양대학교 대학원), 박장군, 전범준, 오혜근(한양대학교 ERICA)
PS3-3
6
네거티브 톤 전자빔 레지스트에 기반한 근자외선 레이저 리소그래피
김환식, 손병희, 김영철, 안영환(아주대학교)