2020 차세대 리소그래피 학술대회

2020 Next Generation Lithography Conference
Nov. 18~19, 2020

Online Conference

Full Program
11월 18일 (수요일)
W-MI II
Metrology / Inspection II
좌장 : 박병천(KRISS) 14:40-15:55
온라인 발표장 바로가기
W-MI II-1
0
차세대 리소그래피용 포토마스크 검사를 위한 정밀 통합광학장비 개발
이민호, 조성용, 인선자, 윤희규, 김상열((주)엘립소테크놀러지)
W-MI II-2
0
Dynamic spectroscopic ellipsometry and its mapping capability
김대석(전북대학교)
W-MI II-3
1
Development of auto focus system for high magnification optical system with real-time tracking function  
문지환, 이정석(명지대학교), 하응주(Machine&Vision Co.,Ltd), 정중연(Net science Co.,Ltd), 김재순(명지대학교)