2020 차세대 리소그래피 학술대회

2020 Next Generation Lithography Conference
Nov. 18~19, 2020

Online Conference

Full Program
11월 18일 (수요일)
W-MI I
Metrology / Inspection I
좌장 : 이병호(SK 하이닉스) 13:00-14:15
온라인 발표장 바로가기
W-MI I-1
1
Current metrology challenges and potential solutions for the next generation semiconductor devices
이명준(삼성전자(주))
W-MI I-2
1
High Resolution E-beam Metrology Applications to Address Edge Placement Error Challenges for Process Optimization and Monitoring in Advanced Technology Node
Kelvin Pao(ASML HMI)
W-MI I-3
1
Model-less TSOM 기법을 이용한 sub-um 단위 Defect 높이 측정 기술 개발 연구
주지용, 이민지, 이준호(공주대학교), 장원혁, 이창욱, 임용운(Samsung Display)